近年来，美国持续加大在高新技术领域对中国企业的打压，严格限制美国企业向中国输入芯片配件及软件产品，企图以此限制中国高新技术企业的生存发展。在此背景之下，“中国芯”概念逐渐受到重视。

芯片的灵魂与核心是集成电路布图设计（简称“布图设计”），集成电路布图设计受集成电路布图设计专有权（简称“专有权”）保护。所谓布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。布图设计作为一种三维配置图形设计，在登记公开的基础上被复制的成本较低，因此专有权侵权纠纷难以避免。布图设计侵权的核心问题在于侵权内容是否落入布图设计专有权的保护范围之内。

笔者在为芯片行业客户日常专项咨询、为投资方提供芯片技术企业投资服务的过程中，结合现有案例对此问题进行了详细梳理与剖析，以供交流。

一、集成电路布图设计专有权

国务院常务会议在2001年就发布《集成电路布图设计保护条例》（简称“《保护条例》”）及《集成电路布图设计保护条例实施细则》（简称“《实施细则》”），确立了集成电路布图设计专有权制度。

集成电路布图设计专有权包括复制权和商业利用权，复制权是指对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制的权利；商业利用权是指将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利。

二、集成电路布图设计专有权保护的对象

从布图设计的定义来看，集成电路布图设计专有权的保护对象应当是集成电路布图设计。集成电路布图设计专有权属于知识产权的大范畴，知识产权保护的对象为权利人的智力成果，因此该等受专有权保护的布图设计应当具有自己的独创性，能够区别于现存的布图设计。笔者认为，在判断一行为是否能够构成布图设计专有权侵权时，首先应当确定主张被侵权的客体是否属于受专有权保护的布图设计。

    三、集成电路布图设计专有权的权利边界

除解决被侵权客体是否适格的问题外，法院审理布图设计侵权争议时关注的另一焦点问题是确定被侵权部分是否落入布图设计专有权保护的范围，即集成电路布图设计专有权权利边界的判断。

1、集成电路布图设计专有权以登记为保护前提

关于集成电路布图设计专有权保护的前提，实务中争议较大。业界诸多文章认为布图设计专有权是以“公开换保护”，理由则是未在国家知识产权局登记公开的布图设计部分不享有专有权的保护。笔者认为，这是对布图设计专有权保护原则的误读，布图设计是否受专有权保护仅以登记与否作为界限。

其一，《保护条例》明确不受保护的是未经登记的布图设计。《保护条例》第8条对此有明确规定，即“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护”。最高院在南京智浦芯联电子科技有限公司、深圳市梓坤嘉科技有限公司、深圳市芯联半导体有限公司与昂宝电子（上海）有限公司（简称“昂宝公司”）侵害集成电路布图设计专有权纠纷（简称“昂宝案”）申请再审一案（（2015）民申字第745号）的民事裁定书对此观点予以赞同，明确表示：“《条例》第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生；未经登记的布图设计不受本条例保护。可见，依法登记是保护布图设计获得保护的先决条件。根据《细则》第十七条的规定，如果布图设计登记申请时未提交布图设计的复制件或者图样，国家知识产权局不予受理。因此，未按法定要求进行登记的，不应享有《条例》保护的布图设计专有权。就本案而言，昂宝公司申请登记时没有按照相关规定提交完整齐备的复制件或图样，属于履行登记手续不符合法律规定的情形，应自行承担相应法律后果。”

其二，登记不等于完全公开。布图设计专有权可以通过保密信息申请实现布图设计的核心内容的公开，且该等操作不会影响其专有权的行使。《实施细则》规定，对于在申请日前没有投入商业使用的布图设计，权利人登记申请可以有不高于布图设计总面积的50%的保密信息，该等保密信息除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不能查阅或者复制。因此，布图设计内容登记以后，权利人可以利用秘密信息保护的方式将核心技术内容封存，不对外进行公开。在秘密信息保护的机制下，即使侵权人采用反向工程复制了布图设计的秘密信息部分，权利人依然可以在该部分秘密信息未对外公开的情况下追究侵权人的侵权责任。

2、集成电路布图设计保护范围以登记时提交的复制件或图样为准确定。

《保护条例》第16条详细规定了布图设计登记时应当提交的材料，布图设计的保护范围应当以布图设计登记时提交的具体材料确定。

对于登记时尚未投入商业利用的布图设计，仅需提交布图设计登记申请表、布图设计复制件或者图样、知识产权行政部门要求的其他材料。此时，布图设计的保护范围应当以复制件或者图样为准确定，理论和实务层面对此均无争议。

与登记时尚未投入商业使用的布图设计相比，已经投入商业使用的布图设计在登记时还应当向登记机关提交含有该布图设计的集成电路样品。由于复制件、样图及样品均能体现布图设计的具体内容，且《保护条例》、《实施细则》并未明确规定应当以哪种材料为准确定布图设计保护范围。实践中，有点观点认为，复制件或样图是布图设计获得专有权的必要条件，而样品则是非必要条件，因此应当以复制件或样品为准确定登记时已投入商业使用的布图设计的专有权保护范围；另一种观点认为，样品能够更全面准确地固定了登记保护的布图设计，应当具有优于复制件或图样作为专有权保护范围的依据。

针对已投入商业使用的布图设计准有权保护范围的确定事宜，最高院及国家知识产权局均认为应当以复制件或样图为准明确专有权保护的范围。

国家知识产权局在其办结的首起集成电路布图设计专有权侵权纠纷的处理决定书中表示，复制件或样图是登记专有权必须提交的文件，其法律地位高于样品，应当以复制件或样图作为专有权的权利载体，样品仅能作为补充，这一观点源于《保护条例》的相关规定，也是尊重当前布图设计专有权的登记和保护现状的结果，具备合法性和合理性，兼顾了法规、规章的规定和行政、司法实践的成果。

最高院则在昂宝案再审裁定书中详细阐述其赞成以复制件或样图作为布图设计专有权权利范围基准的理由，即《保护条例》及《实施细则》对于布图设计登记所需提交复制件、图样等资料的有关要求作了非常细致的规定……尽管布图设计客观上存在复杂程度上的差别，进行登记时需要准备相关资料的难易程度也不相同，但没有证据表明，前述规定关于复制件或图样的要求，客观上是根本无法实现的。另外，对于尚未投入商业使用的布图设计进行登记，《保护条例》及其细则并无提交样品的相关规定。对于尚未投入商业使用的布图设计，通过提交复制件或图样以及相应电子文档完成登记，属于法定要求。可见，在提交复制件或图样的问题上，无论布图设计是否投入商业使用均要求相同，没有作出区别对待。由此，如果人民法院在相关诉讼程序中忽略复制件或图样的法律地位，直接依据样品确定布图设计保护内容，极有可能引发轻视复制件或图样法律地位的错误倾向，使现行法律关于申请资料的相关要求无法落实，引发登记行为失范，产生不良导向作用。

鉴此，笔者认为，在最高院及国家知识产权局对此争议作出一致判断的情况下，权利人为确保最大化的保障布图设计专有权，应当在登记时完整向知识产权局提交详尽的复制件或样图，最大化确定其所拥有的布图设计专有权的保护范围。当然，对于布图设计中蕴含的商业秘密，可以在《保护条例》及其实施细则确定的比例范围内申请保密信息保护措施。

    四、突破集成电路布图设计权利边界的例外情形

从事芯片研发设计的企业不仅可能是布图设计的被侵权人，也极有可能被竞争对手作为侵权人诉诸法院。因此，在分析集成电路布图设计侵权的基础之上，笔者还进一步对突破布图设计权利边界的例外情形，即布图设计侵权抗辩情形进行了归纳总结。

布图设计侵权抗辩包括合法来源抗辩、在先使用抗辩及现有技术抗辩。对于合法来源抗辩和在先使用权抗辩，《保护条例》及其实施细则有明确规定，但是有关现有技术的抗辩，布图设计专有权相关法规却没有明确，需要从知识产权保护的理念进行分析和梳理。

现有技术是《专利法》项下的概念，是指专利申请日以前在国内外为公众所知的技术，《专利法》进一步规定在专利侵权纠纷中，被控侵权人有证据证明其实施的技术和设计属于现有技术或者现有设计的不构成侵犯专利权。与专利相同，布图设计也存在现有技术，例如布图设计登记日前已经被公开但未登记的布图设计。对于这一类布图设计，笔者认为从知识产权法保护的法理基础来看，即使第三方主体在后登记人登记专有权后对此进行了复制利用，也不应当构成侵权。在广东省高级人民法院审理的深圳市华彩威科技有限公司、深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案（（2017）粤民终1145号）中，被控侵权方深圳市华彩威科技有限公司主张现有技术抗辩，虽然法院因为被控侵权方未能举证证明其使用技术为现有技术，但法院对布图设计领域的现有技术的概念予以了认可。综上，笔者认为现有技术是被控侵权方抗辩侵权主张的有效理由之一，同时需要注意的是，提出现有技术主张的一方对现有技术应当负有举证证明责任，否则需要承担举证不能的不利后果。